不同工藝制備的氟化鎂材料對真空鍍膜的影響

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不同工藝制備的氟化鎂材料對真空鍍膜的影響

MgF2是應用最早的、最常用的、性能優(yōu)良的光學鍍膜材料。然而，由于其制備工藝過程不同所造成的材料內(nèi)部組織結構上的差異，最終對真空鍍膜工藝和薄膜光學性能(如折射率)會產(chǎn)生很大的影響

MgF2壓片材料結構較為松散,內(nèi)部組織中存在大量的氣孔和未脫除的結晶水，冷壓時排出了部分氣孔，但由于沒能從根本上消除氣孔，并有少量結晶水存在，鍍膜過程仍有放氣、噴濺及成膜后折射率偏離現(xiàn)象。

晶體MgF2材料，從材料處理工藝上采用了真空低溫預處理、高溫脫氣等過程，最大限度地排除了產(chǎn)生放氣、噴濺和發(fā)生化學反應，從而具備了組織均勻的良好內(nèi)部特征，是真空鍍膜的優(yōu)良首選材料。

1995年，愛特斯光學開始氟化鎂真空鍍膜材料的生產(chǎn)，主要生產(chǎn)氟化鎂晶體和氟化鎂壓片，產(chǎn)品質量穩(wěn)定，熱銷于國內(nèi)外市場。